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芯片設備

Chip equipment

光刻機


設備名稱:光刻機

設備廠商:美國ABM公司

工作原理:将设计的掩模图形通过光刻機曝光转移        到涂有光刻胶的晶片上。

用途:光刻膠的圖形化


技術指標:

1.紫外光波長:365nm,曝光能量密度18-20mW/cm2可調

2. 样品尺寸:6英寸及以下

3. 分辨率:接触曝光<0.5μm,接近式曝光≤1μm

4.對准精度:<1μm



可以实现6英寸wafer光刻,光刻均匀性小于±3%(大尺寸图形);1μm线条均匀性小于± 5%