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芯片設備

Chip equipment

ITO電子束蒸發台

設備名稱:ITO電子束蒸發台

設備廠商:台灣聚昌


工作原理:電子束斑聚焦到介質材料表面,使局部達到蒸發或升華溫度,蒸發出來的原子沈積在基片表面,同時增加離子源輔助沈積,實現高密度、高折射率的光學薄膜。

用途:蒸發透明導電薄膜ITO


技術指標:

1.樣品尺寸:102*2英寸、21*4英寸、12*6英寸

2.基底刻蚀温度: 室温-350℃可调,控温精度1℃

3.极限真空:2×10-7 torr

4.  蒸发均匀性:<±5%



工藝特點:

1. 可沉积致密、高透过率透明导电薄膜,也可通过控制沉积条件,形成不同形貌的ITO纳米结构;

2. 全自动膜厚仪监控薄膜的生长厚度,精确控制薄膜的蒸镀厚度。



不同氧流量下的ITO的形貌